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2025-10-29 22:32
10月29日晚間，中微公司發布2025年第三季度報告。
財報顯示，公司前三季度（1—9月）實現營業收入80.63億元，同比增長約46.40%。其中刻蝕設備收入61.01億元，同比增長約38.26%；LPCVD和ALD等薄膜設備收入4.03億元，同比增長約1332.69%；同期實現歸屬于上市公司股東的凈利潤為12.11億元，同比增長約32.66%。
業績增長主要原因為：前三季度營業收入增長46.40%下，毛利較上年增長約8.27億元；由于市場對中微開發多種新設備的需求急劇增長，2025 年公司顯著加大研發力度，以盡快補短板，實現趕超，為持續增長打好基礎。前三季度公司研發支出較上年同期增長9.79億元（增長約63.44%），研發支出占營業收入比例約為31.29%；由于市場波動，公司2025年前三季度計入非經常性損益的股權投資收益為3.29億元，較上年同期增加約2.75億元等。
據介紹，公司目前在研項目涵蓋六類設備、超二十款新設備的開發。公司研發新產品的速度顯著加快，過去通常需要三到五年開發一款新設備，現在只需兩年或更短的時間就能開發出有競爭力的新設備，并順利進入市場，公司有望在未來幾年加速、大規模地推出多種新產品。
產品交付方面，公司針對先進邏輯和存儲器件制造中關鍵刻蝕工藝的高端產品新增付運量顯著提升，先進邏輯器件中段關鍵刻蝕工藝和先進存儲器件的超高深寬比刻蝕工藝實現大規模量產。
其中CCP方面，公司用于關鍵刻蝕工藝的單反應臺介質刻蝕產品保持高速增長，60比1超高深寬比介質刻蝕設備成為國內標配設備，量產指標穩步提升，下一代90比1超高深寬比介質刻蝕設備即將進入市場；ICP方面，適用于下一代邏輯和存儲客戶用ICP刻蝕設備和化學氣相刻蝕設備開發取得了良好進展。加工的精度和重復性已達到單原子水平。公司為先進存儲器件和邏輯器件開發的LPCVD、ALD等多款薄膜設備已經順利進入市場，并且設備性能完全達到國際領先水平，薄膜設備的覆蓋率不斷增加。公司硅和鍺硅外延EPI設備已順利運付客戶端進行量產驗證，并且獲得客戶高度認可。在泛半導體設備領域，公司正在開發更多化合物半導體外延設備，已陸續付運至客戶端開展生產驗證。
資料顯示，作為國內高端半導體設備制造的領軍者，中微公司等離子體刻蝕設備已應用于國際一線客戶從65納米到14納米、7納米、5納米及其他先進集成電路加工制造生產線，以及先進存儲、先進封裝生產線。其中，CCP電容性高能等離子體刻蝕機和ICP電感性低能等離子體刻蝕機可覆蓋國內95%以上的刻蝕應用需求。公司在過去14年保持營業收入年均增長大于35%。在2024年比2023年銷售增長44.7%的基礎上，2025年上半年營業收入繼續保持高速增長，同比增長43.9%，達到49.61億元。
