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光刻膠新突破，資金加倉概念股出爐

來源：證券時報網(wǎng)作者：梁謙剛2025-10-26 12:23

光刻技術是推動集成電路芯片制程工藝持續(xù)微縮的核心驅(qū)動力之一。

光刻膠領域取得新突破

據(jù)科技日報，近日，北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術，首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結構、界面分布與纏結行為，指導開發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產(chǎn)業(yè)化方案。相關論文近日刊發(fā)于《自然·通訊》。

“顯影”是光刻的核心步驟之一，通過顯影液溶解光刻膠的曝光區(qū)域，將電路圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片上。光刻膠如同刻畫電路的顏料，它在顯影液中的運動，直接決定電路畫得準不準、好不好，進而影響芯片良率。長期以來，光刻膠在顯影液中的微觀行為是“黑匣子”，工業(yè)界的工藝優(yōu)化只能靠反復試錯，這成為制約7納米及以下先進制程良率提升的關鍵瓶頸之一。

為破解難題，研究團隊首次將冷凍電子斷層掃描技術引入半導體領域。研究人員最終合成出一張分辨率優(yōu)于5納米的微觀三維“全景照片”，一舉克服了傳統(tǒng)技術無法原位、三維、高分辨率觀測的三大痛點。

彭海琳表示，冷凍電子斷層掃描技術為在原子/分子尺度上解析各類液相界面反應提供了強大工具。深入掌握液體中聚合物的結構與微觀行為，可推動先進制程中光刻、蝕刻和濕法清洗等關鍵工藝的缺陷控制與良率提升。

中國光刻膠市場增速超過全球

光刻膠是半導體工藝中不可或缺的重要材料。當下的全球光刻膠市場，幾乎被來自日本的JSR、東京應化、信越化學、富士電子等企業(yè)所瓜分，也讓日本在全球半導體制造鏈中占據(jù)著舉足輕重的地位，這都源于日本長久以來的積累。近些年來，中國企業(yè)在光刻膠領域持續(xù)取得技術突破，市場份額穩(wěn)步提升。

據(jù)國際半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會（SEMI）統(tǒng)計，2024年全球光刻膠市場規(guī)模達27.32億美元，同比增長16.15%；2024 年中國大陸半導體光刻膠市場規(guī)模7.71億美元，達到歷史新高，成為全球最大的光刻膠市場，同比增長42.25%，增速遠超同期全球市場。

根據(jù)SEMI《世界晶圓廠預測》報告顯示，2025年全球7nm以下節(jié)點晶圓產(chǎn)能將增長16%，依舊是增長速度最快的制程節(jié)點；除此之外，8~45nm節(jié)點、50nm以上節(jié)點、DRAM、3DNAND等工藝制程晶圓產(chǎn)能將分別增長6%、5%、7%、5%。先進制程的高速增長將促進KrF、ArF以及EUV光刻膠依舊保持著高速增長的態(tài)勢。

融資客盯上5只概念股

從已公布的2025年前三季度業(yè)績數(shù)據(jù)來看，數(shù)據(jù)寶統(tǒng)計，按照三季報、業(yè)績快報、預告凈利潤下限計算（無下限則取公告數(shù)值），11只光刻膠概念股前三季度凈利潤同比增長（含扭虧為盈），包括晶瑞電材、久日新材、瑞聯(lián)新材、艾森股份、鼎龍股份等。

晶瑞電材凈利潤增速最高，公司今年前三季度實現(xiàn)凈利潤1.28億元，同比增長192.03倍，主要系本期產(chǎn)品毛利上漲，交易性金融資產(chǎn)價格波動所致。公司的光刻膠及高純化學品已用于存儲芯片制造。

久日新材今年前三季度實現(xiàn)凈利潤272萬元，同比扭虧為盈。報告期內(nèi)，公司穩(wěn)步實現(xiàn)了部分光引發(fā)劑產(chǎn)品提價策略落地，非經(jīng)常性損益為1003萬元。目前公司的主要產(chǎn)品有光引發(fā)劑、半導體i-線光刻膠、發(fā)光二極管g-線/h-線光刻膠、面板光刻膠以及光刻膠用重氮萘醌類光敏劑、肟酯類引發(fā)劑、沒食子酸類產(chǎn)品等。

瑞聯(lián)新材預計2025年前三季度凈利潤為2.81億元，同比增長51.54%。報告期內(nèi)，顯示材料板塊保持平穩(wěn)發(fā)展，為公司整體業(yè)績提供了堅實基礎。醫(yī)藥與電子材料板塊營業(yè)收入實現(xiàn)較大幅度增長，提升了公司整體營收規(guī)模，有效推動了公司凈利潤水平的提升。目前公司儲備有多款光刻膠材料產(chǎn)品，部分光刻膠單體材料已量產(chǎn)，部分產(chǎn)品處于客戶驗證階段。