微導納米擬發債募資不超11.7億元 投建半導體薄膜沉積設備智能化工廠
      來源:證券時報網作者:李銘宇2025-08-03 17:48

      8月3日晚間微導納米(688147)公告,公司擬向不特定對象發行可轉債,募集資金總額不超過11.7億元(含11.7億元),扣除發行費用后,將全部投資于半導體薄膜沉積設備智能化工廠建設項目、研發實驗室擴建項目及補充流動資金。

      微導納米是一家面向全球的半導體、泛半導體高端微納裝備制造商。公司形成了以ALD技術為核心,CVD等多種真空薄膜技術梯次發展的產品體系,專注于先進微米級、納米級薄膜沉積設備的研發、生產與銷售,向下游客戶提供尖端薄膜沉積設備、配套產品及服務。

      在半導體領域內,該公司是國內首家成功將量產型High-k原子層沉積設備應用于集成電路制造前道生產線的國產設備廠商,是國內首批成功開發并進入產業鏈核心廠商量產線的硬掩膜化學氣相沉積設備(CVD)國產廠商,也是行業內率先為新型存儲提供薄膜沉積技術支持的設備廠商之一。

      據披露,此番微導納米擬使用本次募集資金6.43億元,用于半導體薄膜沉積設備智能化工廠建設項目。項目實施地址位于江蘇省無錫市新吳區內,投資總額為6.7億元,擬計劃建設先進的生產車間,購置先進生產設備和量測設備,提升公司薄膜沉積設備的生產能力,建成后達產年的預計銷售收入為15.65億元。

      薄膜沉積設備作為半導體制造過程中的關鍵設備,其性能和技術水平直接關系到芯片的質量和性能。隨著國內半導體市場的不斷擴大,對薄膜沉積設備的需求也在持續增長。然而,目前我國在高端薄膜沉積設備領域基本依賴進口,這不僅增加了生產成本,也制約了我國半導體產業的供應鏈安全。

      微導納米表示,公司致力于薄膜沉積設備研究,經過多年發展,形成了以原子層沉積(ALD)技術為核心,化學氣相沉積(CVD)等多種真空薄膜技術梯次發展的產品體系,覆蓋多類工藝技術和產品類別。目前,公司產品已經覆蓋邏輯、存儲、硅基OLED和第三代半導體等領域。近年來,受下游市場需求增長影響,公司規模迅速擴張,銷量增長迅速,公司半導體薄膜沉積設備銷售額由2021的0.25億元增長到2024年的3.32億元,CAGR為136.21%。截至2024年末,公司半導體領域在手訂單量為15.05億元,現有的生產能力難以支撐公司在業務規模上的擴張,為了保證公司的產品交付質量及交付能力,公司急需擴建新的生產場地。

      本項目將引進先進生產設備和驗證檢測設備,在增加公司產能的同時,進一步提高質控能力,保障高效穩定的交付水準;此外,本項目還將搭建覆蓋生產全流程的智能管理系統,提升公司生產效率和運營效率,以最大化釋放公司產能。因此,本項目的建設是公司實現戰略發展目標、提升綜合競爭力的重要舉措。

      責任編輯: 趙黎昀
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