芯源微已經(jīng)成為國內(nèi)唯一可提供量產(chǎn)型中高端涂膠顯影設(shè)備的企業(yè)。

光刻工序是集成電路制造的重中之重，占據(jù)產(chǎn)線上50%的時間和30%的成本。它也是整條芯片產(chǎn)線上國產(chǎn)設(shè)備替代率最低的工藝環(huán)節(jié)——前道光刻機(jī)國產(chǎn)替代率不足3%，而產(chǎn)線上唯一與其聯(lián)機(jī)作業(yè)的前道涂膠顯影設(shè)備，長期被日本企業(yè)高度壟斷，國產(chǎn)替代率不足10%。

涂膠顯影機(jī)與光刻機(jī)、光刻膠被稱為光刻工序的三大要素。芯源微立足自主研發(fā)，深度耕耘，已經(jīng)成為國內(nèi)唯一可提供量產(chǎn)型中高端涂膠顯影設(shè)備的企業(yè)。

“芯源微是沈陽IC裝備產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟的先鋒。2002年芯源微創(chuàng)立時，國內(nèi)半導(dǎo)體市場還沒有形成，沒有產(chǎn)品、沒有供應(yīng)鏈，最重要的是沒有市場、沒有客戶。”芯源微創(chuàng)始人、榮譽(yù)董事長宗潤福表示。芯源微立足自主研發(fā)，頑強(qiáng)地活了下來，從4寸、6寸做到8寸、12寸，從LED做到后道先進(jìn)封裝、做到前道領(lǐng)域。2019年芯源微在上交所科創(chuàng)板成功上市，是“遼寧省科創(chuàng)板第一股”，目前已經(jīng)發(fā)展成為國內(nèi)涂膠顯影細(xì)分領(lǐng)域龍頭企業(yè)。

芯源微在國產(chǎn)替代的道路上披荊斬棘，克服了重重艱難險阻：

一是涂膠顯影設(shè)備本身的高度復(fù)雜性。從設(shè)備結(jié)構(gòu)看，最先進(jìn)的涂膠顯影機(jī)有超過150個單元，10余個機(jī)械手，每小時進(jìn)行上萬次機(jī)電動作。從工藝難度看，涂膠就像在足球場上鋪地板，高低差要控制在一根頭發(fā)絲以內(nèi)。

二是涂膠顯影機(jī)要與芯片產(chǎn)線上最昂貴、最重要的光刻機(jī)聯(lián)機(jī)作業(yè)。宗潤福表示：“聯(lián)機(jī)驗證難，更重要的是決不能拖累光刻機(jī)，我們必須對產(chǎn)品的產(chǎn)能、良率和可靠性有高要求。”

三是日系設(shè)備起步早、積累深厚，對國內(nèi)市場形成高度壟斷，壟斷率超過90%。隨著研發(fā)進(jìn)程持續(xù)推進(jìn)，產(chǎn)品迭代突破，芯源微將進(jìn)一步推進(jìn)國產(chǎn)替代進(jìn)程。

國產(chǎn)替代率低意味著發(fā)展空間極大。芯源微的前道設(shè)備已經(jīng)覆蓋了28納米以上所有工藝節(jié)點(diǎn)，覆蓋了中國半導(dǎo)體90%以上的成熟工藝。其中，前道物理清洗設(shè)備已經(jīng)達(dá)到國際先進(jìn)水平，成功實現(xiàn)國產(chǎn)替代，國內(nèi)市占率第一；前道化學(xué)清洗設(shè)備聚焦先進(jìn)制程，瞄準(zhǔn)國外長期壟斷環(huán)節(jié)，芯源微已成為國內(nèi)首個通過高溫硫酸清洗工藝驗證并獲得重復(fù)訂單的企業(yè)。在后道先進(jìn)封裝領(lǐng)域，芯源微作為成套工藝設(shè)備提供商，產(chǎn)品市占率超過50%，成為客戶端主力量產(chǎn)設(shè)備商，同時持續(xù)布局2.5D、3D封裝等新興領(lǐng)域，發(fā)展新增長點(diǎn)。

在談到為什么“六小虎”能在沈陽發(fā)展壯大時，宗潤福表示：“遼沈的裝備制造業(yè)有產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)和配套優(yōu)勢，沈陽的人才既穩(wěn)定，又具備工匠精神、研發(fā)精神。在省市區(qū)各級政府的有機(jī)組織與持續(xù)支持下，沈陽零部件與半導(dǎo)體裝備在全國范圍內(nèi)都具備一定影響力。”

芯源微立足遼沈，堅定自主研發(fā)，研發(fā)費(fèi)用連續(xù)多年保持在營業(yè)收入的10%以上。2024年，其研發(fā)投入達(dá)2.97億元，同比增加近50%。技術(shù)上的研發(fā)突破，即將批量轉(zhuǎn)化為市場上的累累碩果。